Product Description
El módulo de aislamiento magnético de ARNm poli(A) de alto rendimiento NEBNext está diseñado para aislar ARN poli(A)+ intacto a partir de entradas altas (5-50 µg por reacción de 0,2 ml) de ARN total previamente aislado, utilizando oligo d(T). Categorías relacionadas Preguntas frecuentes sobre la preparación de bibliotecas de secuenciación de próxima generación P: ¿Puedo aislar el ARNm poli(A) directamente de la lisis tisular, utilizando el módulo de aislamiento de ARNm poli(A) de alto rendimiento NEBNext®? R: No, este kit está diseñado para el aislamiento de ARNm a partir de ARN total previamente aislado. El ARN total se puede aislar utilizando el kit Monarch® Total RNA Miniprep (NEB n.º T2010). P: ¿Necesito realizar dos rondas de unión? R: Se recomiendan múltiples eventos de unión de ARN para obtener una alta especificidad para el ARN poli(A) y minimizar el fondo. P: ¿Puedo utilizar el módulo de aislamiento de ARNm poli(A) de alto rendimiento NEBNext® con entradas de ARN total superiores a 50 µg? ¿Qué ocurre con entradas más bajas? R: Para obtener los mejores resultados al usar entradas de ARN total superiores a 50 µg, todos los volúmenes del protocolo se pueden ajustar proporcionalmente. Para entradas inferiores a 5 µg, se recomienda el módulo de aislamiento magnético de ARNm NEBNext® Poly(A) (NEB n.° E7490). P: ¿Se puede eluir el ARN con agua? R: Sí, el ARN se puede eluir con agua. El volumen de elución también se puede ajustar para una concentración final mayor o menor.
Order Guidelines
1. Price & Stock Available on Request. Click to send email to: service@iright.com
2. Please DO NOT make payment before confirmation.
3. Minimum order value of $1,000 USD required.
Collaboration
Tony Tang
Email: Tony.Tang@iright.com
Mobile/WhatsApp/Wechat: +86-17717886924